Evolase公司成立于2020年，是阿尔托大学(芬兰埃斯波)的分支机构，位于芬兰的伊玛特拉。Evolase全光纤高功率激光系统基于定制的超大模式面积有源光纤，针对高重复频率操作和抑制非线性效应进行了有效的优化。Evolase的目标应用是那些可以受益于窄线宽、高重复频率和高输出功率的应用，如：光谱学，包括实时拉曼、半导体晶圆表征、微焊接、激光清洗、脆性、透明和半导体材料的微加工。
特点：
• 70 W @ 1064 nm
• 30 W @ 532 nm
• 12 W @ 355 nm
• 重复频率：50 kHz~20 MHz
• 最大脉冲能量：60 μJ
• 脉宽：50 ps
• 光束质量：M²<1.3
• 一体式、全密封的坚固设计
• 冷却方式：风冷、水冷
• 全寿命周期成本低
应用：
• 透明材料内部标记
• 打标和成型
• 脆性材料微加工
• 生物成像
• 泵浦飞秒OPO/OPA
• 显微系统
• 激光清洁
• 拉曼光谱
• 玻璃改性
参数：
型号(UKKO-PS-...) | 1064-50-10-20 | 1064-50-10-60 | 1064-50-80-60 | 532-50-5-10 | 532-50-40-30 | 532-50-40-30 | 355-50-15-12 |
主要参数 | |||||||
中心波长 | 1064±1 nm | 532±1 nm | 355±1 nm | ||||
激光脉冲重复频率(PRR)范围 | 50 kHz-20 MHz | ||||||
最大平均输出功率(1064 nm) | >10 W | >10 W | >70 W | - | - | - | - |
最大平均输出功率(532 nm) | - | - | - | >5 W | >5 W | >30 W | - |
最大平均输出功率(355 nm) | - | - | - | - | - | - | >12 W |
PRR时脉冲能量(1064 nm) | 20 μJ | 60 μJ | 60 μJ | - | - | - | - |
PRR时脉冲能量(532 nm) | - | - | - | 10 μJ | 25 μJ | 25 μJ | - |
PRR时脉冲能量(355 nm) | - | - | - | - | - | - | 10 μJ |
预热8小时后功率长期稳定性(Std.dev.) | <1.0 % | ||||||
脉冲宽度(FWHM)@1064 nm | 50±5 ps | ||||||
M² | <1.3 | ||||||
偏振消光比(PER) | >15dB | ||||||
圆度，远场 | >0.85 | ||||||
发散角，全角 | <3mRad | ||||||
像散 | <0.1 | ||||||
光斑指向稳定性(pk-to-pk) | <70μRad | ||||||
距离激光孔径50cm处的光束直径(1/e²) | 1±0.2 mm | ||||||
控制接口 | RS232, LAN, USB，外接TTL触发，TTL信号输出与光脉冲同步 | ||||||
工作条件 | |||||||
电源要求* | 24 VDC | 24 VDC | 24 VDC；36 VDC | 24 VDC | 24 VDC | 24 VDC；36 VDC | 24 VDC；36 VDC |
最大功耗 | 100 W | 110 W | 400 W | 170 W | 180 W | 400 W | 400 W |
制冷机功耗 | Not required | Not required | 300 W | Not required | Not required | 300 W | 300 W |
工作环境温度 | 18–27°C | ||||||
相对湿度 | 10–80 % (不结露) | ||||||
空气污染级别要求 | ISO 9 (室内空气)或更好 | ||||||
冷却方式及外观尺寸 | |||||||
冷却 | Air | Air | Water | Air | Air | Water | Water |
激光器尺寸(W×H×L) | 345×330×121 mm | 535×304×121 mm | |||||
等级规范 | |||||||
按EN60825-1分类 | CLASS 4 laser product | ||||||
